Litografía ultravioleta extrema (EUV)
Extreme ultraviolet lithography
- Fecha
- 2019 · fiabilidad alta
- Lugar
- ASML, Veldhoven, Países Bajos (láser de Trumpf y óptica de Zeiss)
- Autoría
- ASML con Zeiss, Trumpf y Cymer; investigación previa en Lawrence Livermore y Sandia
- Ámbito
- Herramientas
Qué es
Máquina que imprime circuitos con luz de 13,5 nm generada al vaporizar gotas de estaño con láser y reflejada por espejos de precisión atómica. Es la máquina más compleja jamás fabricada y única en el mundo.
Los primeros chips en volumen con EUV fueron los de Samsung y TSMC en 2019.
A qué dio paso
- Los chips de 7, 5 y 3 nm de móviles y aceleradores de IA
- La geopolítica de semiconductores: controles de exportación a China
- Un monopolio tecnológico europeo en la cadena de suministro global
Se apoya en
- Proceso planar de fabricación de semiconductores1959
- fotolitografía de inmersión
- láser de CO2 de alta potencia
Hizo posible
- Apple M1, sistema en chip ARM para ordenadores2020
- chips de 3 nm
- Nvidia H100
- Apple A y M series